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當(dāng)前位置：首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心   >  等離子刻蝕機(jī)  >  科研型等離子刻蝕機(jī)

  • PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)是一款低成本，適合于科研機(jī)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室的桌面型科研設(shè)備，整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進(jìn)行干法刻蝕。該系統(tǒng)包括反應(yīng)腔室，真空系統(tǒng)，RF射頻系統(tǒng)，反應(yīng)氣路系統(tǒng)，電器控制，軟件程序等幾個(gè)子系統(tǒng)。

    訪問(wèn)次數(shù)：245
    產(chǎn)品價(jià)格：499999
    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
    更新日期：2025-03-05
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